歡迎訪問~寶雞市眾昌有色金屬有限公司官方網站
                        咨詢電話:13571195021

                      產品應用

                      MOCVD原理:

                      MOCVD是以III組、II族元素的有機化合物和V、Ⅵ族元素的氫化物等作為晶體生長源材料,以熱分解反應方式在襯底上進行氣相外延,生長各種Ⅲ-V族、Ⅱ-Ⅵ族化合物半導體以及它們的多元固溶體的薄層單晶材料。通常MOCVD系統中的晶體生長都是在常壓或低壓(10-100Torr)下通H2的冷壁石英(不銹鋼)反應室中進行,襯底溫度為500-1200℃,用射頻感應加熱石墨基座(襯底基片在石墨基座上方),H2通過溫度可控的液體源鼓泡攜帶金屬有機物到生長區。


                      MOCVD優點:

                      - 適用范圍廣泛,幾乎可以生長所有化合物及合金半導體;

                      - 非常適合于生長各種異質結構材料;

                      - 可以生長超薄外延層,并能獲得很陡的界面過渡;

                      - 生長易于控制;

                      - 可以生長純度很高的材料;

                      - 外延層大面積均勻性良好;

                      - 可以進行大規模生產。

                      上一個:藍寶石長晶爐 下一個:離子注入應用

                      導航欄目

                      聯系我們

                      聯系人:呂經理

                      手 機:13571195021

                      郵 箱:13571195021@139.com

                      公 司:寶雞市眾昌有色金屬有限公司

                      地 址:陜西,寶雞市渭濱區新建路河堤新村

                      ?
                      用手機掃描二維碼關閉
                      二維碼
                      亚洲电影无码在线免费播放_亚洲无码免费在线_在线观看免费播放av片在线_在线不卡日本ⅴ一区v二区