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                      產品應用

                      離子注入技術概念

                      當真空中有一束離子束射向一塊固體材料時,把離子束把固體材料的原子或分子撞出固體材料表面,這個現象叫做濺射;而當離子束射到固體材料時,從固體材料表面彈了回來,或者穿出固體材料而去,這些現象叫做散射;另外有一種現象是,離子束射到固體材料以后,受到固體材料的抵抗而速度慢慢減低下來,并最終停留在固體材料中,這一現象就叫做離子注入。


                      離子注入技術原理:

                      是近30年來在國際上蓬勃發展和廣泛應用的一種材料表面改性高新技術。其基本原理是:用能量為100keV量級的離子束入射到材料中去,離子束與材料中的原子或分子將發生一系列物理的和化學的相互作用,入射離子逐漸損失能量,最后停留在材料中,并引起材料表面成分、結構和性能發生變化,從而優化材料表面性能,或獲得某些新的優異性能。此項高新技術由于其獨特而突出的優點,已經在半導體材料摻雜,金屬、陶瓷、高分子聚合物等的表面改性上獲得了極為廣泛的應用,取得了巨大的經濟效益和社會效益。

                      離子注入作為微電子工藝中重要的摻雜技術,在優化材料表面性能方面發揮著關鍵作用。離子注入工藝對材料的高溫性能和耐化學侵蝕性能要求非常高,因此,電離室主要部件均采用由鎢、鉬或石墨材料。格美多年來一直對離子注入行業用鎢鉬材料進行生產研發,擁有穩定的生產工藝和豐富的經驗。

                      眾昌金屬材料為您提供優質的離子注入應用材料。


                      應用產品:鎢棒、鎢板、鉬棒、鉬板

                      鎢棒、鉬棒

                      直徑(mm)

                      直徑偏差(mm)

                      長度(mm)

                      長度偏差(mm)

                      粗糙度(μm)

                      車光表面

                      Φ10~Φ350

                      ±0.01~±0.05

                      10~3000

                      ±0.01~±1

                      Ra≤1.6

                      磨光表面

                      Φ10~Φ80

                      ±0.01~±0.05

                      10~8000

                      ±0.01~±1

                      Ra≤0.8


                      可加工品種與規格:

                      鎢板、鉬板

                      厚度( δ)

                      厚度偏差(mm)

                      寬度(mm)

                      寬度偏差(mm)

                      長度(mm)

                      長度偏差(mm)

                      粗糙度(μm)

                      車光表面

                      10~40

                      ±0.05~±0.1

                      10~300

                      ±0.1~±0.5

                      10~500

                      ±0.1~±0.5

                      Ra≤1.6

                      磨光表面

                      10~40

                      ±0.05~±0.1

                      10~800

                      ±0.05~±0.2

                      10~1000

                      ±0.05~±0.2

                      Ra≤0.8

                      上一個:MOCVD應用 下一個:高溫爐應用

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